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迈思德亮相2026 CIOE,聚焦光模块微污染控制

发布日期:2026-09-11 作者: 点击:


9月9日,第27届中国国际光电博览会(CIOE)在深圳开幕。迈思德携光模块无尘耗材专项解决方案亮相展会,面向光模块、精密光学及光电制造客户,集中展示微污染控制相关产品与应用方案。

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随着光模块、精密光学及光电器件向高集成、高精度方向发展,镜片清洁、光学模组装配及精密检测等环节对颗粒、残留和静电等微污染控制提出了更高要求。围绕光模块及精密光学制造中的实际使用场景,迈思德此次集中展示三大系列专项产品:

  • 无尘清洁系列产品解决抛光残留、微粒指纹、液体残留等痛点。

  • 精细部位清洁系列产品针对缝隙边缘、精密表面的颗粒和微污染进行清洁。

  • 人体防护系列降低颗粒释放、人员接触及静电带来的污染痛点。

三大系列产品共同覆盖精密表面清洁、局部颗粒控制和人员污染控制等光模块及精密光学制造关键环节,为镜片清洁、光学模组装配、洁净检测等不同工序提供相应的洁净耗材配套。

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针对光模块和精密光学行业客户对洁净耗材稳定性的要求,迈思德建立了围绕产品检测、批次管理和持续供应的质量控制体系。公司围绕LPC、离子、NVR、发尘性、静电性能及物理性能等关键指标开展产品验证,并通过自有生产、批次追溯和多品类供应链协同,为客户提供从产品选型、样品验证到长期供应的配套支持。

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作为无尘车间运维设备与耗材全品类提供商,迈思德在本次CIOE展会集中呈现了公司在光模块及精密光学洁净耗材领域的产品布局,并围绕镜片清洁、精密装配、局部粘尘、人员污染控制及产品验证等实际需求,与终端制造客户开展现场交流。

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9月9日—9月11日,迈思德将在CIOE现场1D65展位,持续展示光模块无尘耗材专项解决方案。现场可查看产品样品,并结合具体清洁对象、制造工序及洁净要求交流产品选型与验证方案。


本文网址:http://www.myesde.com/news/445.html

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